Diborano en hidrógeno
La mezcla gaseosa de diborano e hidrógeno se utiliza principalmente como dopante para la fuente gaseosa de impurezas, la implantación iónica y la difusión por oxidación del dopante boro.
La mezcla gaseosa de diborano e hidrógeno se utiliza principalmente como dopante para la fuente gaseosa de impurezas, la implantación iónica y la difusión por oxidación del dopante boro.
El hidrógeno es un gas incoloro, inodoro, inflamable y el gas más ligero conocido. En general, el hidrógeno no es corrosivo, pero a altas presiones y temperaturas puede provocar fragilización en algunos tipos de acero. El hidrógeno no es tóxico, pero no es vital, es un agente asfixiante.
El hidrógeno de alta pureza se utiliza ampliamente en la industria electrónica como agente reductor y gas portador.
Hydrogen bromide is an inorganic compound with a chemical formula of HBr and a molecular weight of 80.91. It is a colorless gas with standard conditions and is the basic raw material for chemical synthesis.
Hydrogen bromide is an inorganic compound with a chemical formula of HBr and a molecular weight of 80.91. It is a colorless gas with standard conditions and is the basic raw material for chemical synthesis.
Hydrogen bromide is an inorganic compound with a chemical formula of HBr and a molecular weight of 80.91. It is a colorless gas with standard conditions and is the basic raw material for chemical synthesis.
Hydrogen chloride is a transparent colorless or slightly yellow strong corrosive liquid with a pungent odor. A concentrated hydrochloric acid contains 38% HCl, the relative density is 1.19, the melting point is -112°C, and the boiling point is -83.7°C. Hydrogen chloride is an important inorganic chemical raw material, widely used in dyes, medicine, food, printing and dyeing, leather, metallurgy and other industries.
La mezcla gaseosa de nitrógeno y silano es un gas inflamable que puede explotar cuando se calienta. Se utiliza principalmente en espectrómetros de fluorescencia de rayos X, detectores electrónicos y otros instrumentos, investigación de laboratorio, etc.
El fosforano es una importante fuente dopada de tipo n en la fabricación de dispositivos semiconductores, y también se utiliza en la deposición química en fase vapor de polisilicio, material epitaxial GaP, proceso de implantación iónica, proceso MOCVD, preparación de películas de pasivación de vidrio de silicio fosforado (PSG) y otros procesos.
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